大方科技氨逃逸分析系统荣获北京市科学技术奖
2018年2月5日，北京市科学技术奖励大会召开，会议宣读了关于2017年度北京市科学技术奖励的决定，北京大方科技“多点抽取式高精度脱硝氨逃逸激光在线分析系统开发与应用”项目凭借多项开拓性技术创新和优秀的产业化成绩，荣获该年度科学技术奖。
市委书记蔡奇， 市委副书记、市长陈吉宁出席大会， 并为科技工作者颁奖。
作为环保脱硝的关键监测设备，氨逃逸在线分析系统的准确测量关系到生产效率和设备安全，是火电、水泥、陶瓷等行业不可或缺的监测设备之一。
大方科技基于自身掌握的TDLAS核心技术，结合国内脱硝实际工况环境，开发的多点抽取式高精度脱硝氨逃逸激光在线分析系统，经过大量案例实践证明，成功解决了现有脱硝氨逃逸在线分析仪表取样代表性不足、缺乏趋势相关性等问题。研究成果提升了氨逃逸监测技术水平，对保障烟气脱硝系统安全经济运行起到了积极作用，具有良好的社会效益、经济效益和推广应用前景。
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